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Electrodeposition Modulex

锌电解槽中的二次电流分布 中文

本案例使用二次电流分布模型,分析了锌电解电池。 通过参数化研究改变电极排列对电流分布的影响,几何结构为二维。 扩展阅读

离子交换膜和唐南电位

该模型文件用于创建博客文章“如何模拟离子交换膜和唐南电位”中的绘图。 扩展阅读

铝阳极氧化 中文

对铝进行阳极氧化处理时,其表面会发生电化学反应,形成一层耐磨且抗腐蚀的 Al2O3 膜,在此过程中,电极动力学仅在氧化层生长时受到轻微影响,因此,对电流分布进行稳态分析足以确定该层厚度的均匀性。 ... 扩展阅读

微型接头凸块电镀 - 二维 中文

此模型演示对流和扩散对铜微连接器凸块(金属柱)的传输受限电镀的影响。微连接器凸块在各种类型的电子应用中用于元件互连,例如,液晶显示器 (LCD) 和驱动器芯片就用到了这样的突块。 ... 扩展阅读

装饰镀层 中文

电镀教学案例。模型对阳极和阴极均采用二次电流分布和全 Butler-Volmer 动力学,计算了阴极沉积层的厚度,以及由阳极表面因溶解引起的图案。 扩展阅读

机架上多个部件的电镀 中文

在对多个部件进行电镀时,我们通常将其安装在电镀槽的机架上。 接下来,一个重要的方面是,使机架上安装的所有部件具有均匀的镀层厚度。 您可以使用该示例模型研究多个几何和操作参数对机架电镀均匀性的影响。 扩展阅读

抗蚀图案化晶片上的电镀 中文

本例模拟 CUP-PLATER 反应器中电阻晶片上的瞬态铜沉积。随着沉积层加厚,其电阻损耗减小。本例演示如何使用电流分流电极获得更均匀的沉积。 扩展阅读

电池和电化学池的电位分布

此模型的目的是将电化学池(如电池)中的电位进行可视化,此操作在开路电压和运行期间完成。在电池中,这对应于开路电压、放电和再充电。本例解释了平面电极电池和多孔电极电池的电位分布。 本教学案例对 ... 扩展阅读

旋转圆筒赫尔槽 中文

旋转圆筒赫尔槽是电镀过程中的重要实验分析工具,用于测量电镀槽的不均匀的电流分布、质量传递和均镀能力。本模型研究了沿电极的一次、二次和三次电流分布以及阴极周围扩散层中的铜扩散,再现了论文 [1] 中发表的市售槽 ... 扩展阅读

电感线圈的电镀 中文

在三维模式下对电感器线圈的沉积进行建模。几何结构包含沉积图案向绝缘光刻胶掩膜的拉伸,以及光刻胶上方的扩散层。 铜离子在电解质中的质量传递对沉积动力学有重大影响,导致沉积图案外侧部分的沉积速率更快 ... 扩展阅读